實(shí)驗(yàn)室膠體磨目前，許多央企國企的科研機(jī)構(gòu)、大專院校、企業(yè)研發(fā)中心在實(shí)驗(yàn)室里做試驗(yàn)時(shí)因沒有多功能濕法混合均質(zhì)、分散乳化、粉碎研磨多合一設(shè)備而經(jīng)常影響項(xiàng)目進(jìn)展和試驗(yàn)效果，眾人周知，在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)一般面積比較小，做試驗(yàn)時(shí)不同的介質(zhì)使用不同的設(shè)備，但太多試驗(yàn)設(shè)備投資多保養(yǎng)維護(hù)管理難。多少個(gè)科技工作者多么希望有一臺(tái)投資少、功能全、占地少、的粉碎均質(zhì)乳化設(shè)備。為此東盛科研組根據(jù)大專院校、科研機(jī)構(gòu)的實(shí)際困難，以人為本大膽應(yīng)用了三項(xiàng)國家專利技術(shù)，經(jīng)幾年努力終于發(fā)明創(chuàng)造了一臺(tái)主機(jī)配合多個(gè)模塊的新型設(shè)備，解決了科研工作者的燃眉之急。
CN.HAOSTAR實(shí)驗(yàn)型膠體磨的剪切、混合、均化、研磨四合一實(shí)驗(yàn)設(shè)備配置如下：
主機(jī)：由1.1Kw、 2.2kw或3Kw以上普通電機(jī)1臺(tái)，軸承座1件，泵殼1件，模塊三個(gè)，模塊可互換使用，8-12升斗1只以及循環(huán)管道閥(控制閥)等組成。
可以配：小型反應(yīng)釜〔20-50升〕以及電器控制箱。反應(yīng)釜內(nèi)的攪拌機(jī)為普通0.75-1.5kw或以上電機(jī)（說明詳見本公司高剪切乳化研磨罐-多功能高剪切乳化均質(zhì)研磨機(jī)組合）
也可配：變頻電機(jī)，單相電機(jī)，防爆電機(jī)，電器控制箱
三個(gè)模塊分別為：
模塊之一：混合均質(zhì)機(jī)頭模塊（說明詳見高剪切均質(zhì)機(jī)）
模塊之二：剪切微化機(jī)頭模塊（說明詳見高剪切微化機(jī)）
模塊之三：粉碎膠體磨頭模塊（說明詳見高剪切膠體磨）
模塊之一：昊星實(shí)驗(yàn)室專用膠體磨機(jī)性能特點(diǎn)： 小型膠體磨-濕式研磨機(jī)產(chǎn)品采用自新科技研制而成:濕法粉碎機(jī),各類膠體磨: 全封閉式膠體磨,管線式研磨機(jī),研磨泵,轉(zhuǎn)子泵擁有實(shí)用新穎，整體衛(wèi)生，環(huán)保節(jié)能。
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執(zhí)行國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T 14466和企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)Q/WHX02-2010。
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為精品型［整體不銹鋼衛(wèi)生級(jí)］或普通型［機(jī)體采用不銹鋼］兩種。
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小型膠體磨分為常用機(jī)型一立式膠體磨（普通型、精品型）；分體式膠體磨（普通型、精品型）；全封閉式膠體磨（普通型、精品型）等等。
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設(shè)有排設(shè)擋水盤，操作使用簡(jiǎn)單，安裝維護(hù)方便，體積小等特點(diǎn)。
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為濕式超微粒研磨、粉碎、乳化、混合、分散、均質(zhì)、攪拌等高效功能。
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適用于各類液態(tài)狀介質(zhì)物料，處理物料粘稠密度應(yīng)小于100-1000CP厘泊的介質(zhì)。
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可按照客戶對(duì)加工物料不同的酸度、堿度、濃稠度等性質(zhì)特殊要求定制生產(chǎn)。
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磨頭(動(dòng)靜磨盤) 采用不銹鋼或剛玉滲WC耐磨磨片,硬度HL800耐磨盤。
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可代替并優(yōu)于石磨，砂磨機(jī)、球磨機(jī)、乳勻機(jī)、乳化機(jī)、三輥機(jī)、搗碎機(jī)等工作。
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